[实用新型]一种带圆形狭径孔的熔体有效

专利信息
申请号: 201620006751.9 申请日: 2016-01-06
公开(公告)号: CN205303395U 公开(公告)日: 2016-06-08
发明(设计)人: 石晓光;赫俊伟 申请(专利权)人: 西安中熔电气有限公司
主分类号: H01H85/08 分类号: H01H85/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 710075 陕西省西安市高新区锦业路69*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 一种带圆形狭径孔的熔体,包括熔体基片,在熔体基片上有若干成排的狭径孔,相邻狭径孔之间的部分为狭径,狭径的尺寸即同一排上相邻狭径孔的间距为0.145-0.175mm,所述狭径孔为圆孔,本实用新型应用到熔断体后,使得相对功耗降低,分断能力提高,耗费熔体材料减少。
搜索关键词: 一种 圆形 狭径孔
【主权项】:
一种带圆形狭径孔的熔体,包括熔体基片(1),其特征在于,在熔体基片(1)上有若干成排的狭径孔(3),相邻狭径孔(3)之间的部分为狭径(2),狭径(2)的尺寸即同一排上相邻狭径孔(3)的间距为0.145‑0.175mm,所述狭径孔(3)为圆孔。
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