[实用新型]一种真空吸附装置

摘要

本实用新型公开了一种真空吸附装置，包括基板、位于所述基板上方的真空吸盘、设于所述基板下方且位置与所述真空吸盘对应的负压槽、一端连接所述负压槽的导气管、以及与导气管另一端连接的真空发生器，所述真空吸盘上设有若干与所述负压槽连通的吸附孔，若干所述吸附孔之间设有水平连通槽。通过在基板下方设置位置与真空吸附盘对应的负压槽，并在真空吸盘上设置与所述负压槽连通的吸附孔，为真空吸盘上方的工件提供稳定的负压环境，当真空发生器发生故障或停止工作后，负压槽可以继续提供稳定的负压力，避免工件脱离真空吸盘而受到损坏，提高了装置的可靠性；通过在吸附孔之间设置水平连通槽，增大了工件的吸附面积，进一步提高了工件的定位效果。

主权项

一种真空吸附装置，其特征在于，包括基板、位于所述基板上方的真空吸盘、设于所述基板下方且位置与所述真空吸盘对应的负压槽、一端连接所述负压槽的导气管、以及与所述导气管另一端连接的真空发生器，所述真空吸盘上设有若干与所述负压槽连通的吸附孔，若干所述吸附孔之间设有水平连通槽，所述负压槽的内部设有负压腔，所述负压腔的上端与所述基板的下表面贴紧，所述负压腔与所述导气管连通，所述负压腔的上端外周围设有第二密封圈，所述负压腔与所述导气管之间设有调节阀。