[实用新型]一种区块掩模板结构有效
| 申请号： | 201620014684.5 | 申请日： | 2016-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN205295445U | 公开（公告）日： | 2016-06-08 |
| 发明（设计）人： | 余国正 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 上海申浩律师事务所 31280 | 代理人： | 乐卫国 |
| 地址： | 201506 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种区块掩模板结构，包括掩模板本体，所述掩模板本体上设置有半蚀刻区与缓冲区，所述缓冲区位于半蚀刻区的外侧，在所述半蚀刻区或缓冲区设置有起张力分散与识别管理作用的二维条码。本实用新型通过在半蚀刻区或缓冲区设置二维条码的技术解决方案，既实现了张力均匀分散，不容易产生皱折，又通过二维条码方便管理。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 区块 模板 结构 | ||
【主权项】：
区块掩模板结构，其特征在于，包括掩模板本体，所述掩模板本体上设置有半蚀刻区与缓冲区，所述缓冲区位于半蚀刻区的外侧，在所述半蚀刻区或缓冲区设置有起张力分散与识别管理作用的二维条码。
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