[实用新型]一种具有高透过率的光学薄膜有效
| 申请号： | 201620016754.0 | 申请日： | 2016-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN205404861U | 公开（公告）日： | 2016-07-27 |
| 发明（设计）人： | 任永安;韩毅;魏东 | 申请（专利权）人： | 渭南像王光电显示技术开发有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 714026 陕西省渭*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种具有高透过率的光学薄膜，包括透明基板，其特征在于：在所述透明基板上通过磁控溅射镀膜的方式形成的金属镀层，所述金属镀层为多层的Si镀层、MoSi2镀层、Pt镀层和Ti镀层周期性交替构成，并附着于所述透明基板表面；所述Si镀层的厚度为40~60nm，所述MoSi2镀层的厚度为10~25nm，所述Pt镀层的厚度为10~20nm，所述Ti镀层的厚度为20~30nm。本实用新型光学薄膜采用磁控溅射镀膜的方式形成特殊构造的复合金属镀层，对可见光具有高透过性，平均反射率仅为18%左右。无需增加电介质层，即可达到普通金属电介质反射膜的反射性能，最大程度的保留了金属膜中性反射的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 透过 光学薄膜 | ||
【主权项】：
一种具有高透过率的光学薄膜，包括透明基板，其特征在于：在所述透明基板上通过磁控溅射镀膜的方式形成的金属镀层，所述金属镀层为多层的Si镀层、MoSi2镀层、Pt镀层和Ti镀层周期性交替构成，并附着于所述透明基板表面；所述Si镀层的厚度为40~60nm，所述MoSi2镀层的厚度为10~25nm，所述Pt镀层的厚度为10~20nm，所述Ti镀层的厚度为20~30nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于渭南像王光电显示技术开发有限公司，未经渭南像王光电显示技术开发有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201620016754.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
