[实用新型]一种足浴盆有效

专利信息
申请号: 201620035655.7 申请日: 2016-01-13
公开(公告)号: CN205963894U 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: 韩志伟;韩勇伟 申请(专利权)人: 合肥和正医疗科技有限公司
主分类号: A47K3/022 分类号: A47K3/022;A61H15/00;A61H39/04
代理公司: 安徽汇朴律师事务所34116 代理人: 汪蕙
地址: 230000 安徽省合肥市包河区兰*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型公开了一种足浴盆,包括盆体、设置在盆体底面的呈弧形的按摩台、设置在按摩台的安装槽以及装配在安装槽的按摩轮,上述盆体底面边缘处设置有关于盆体对称的按摩座,上述按摩座上设置有多个按摩凸点,上述按摩凸点均匀铺设。本实用新型的有益效果在于,在足浴盆具有按摩台、以及按摩轮的前提下增设了多个按摩座并且配有按摩凸点,使得使用者在进行足底按摩的同时,还能将足跟或足尖放置在按摩座上进行按摩,对于足跟或足尖的按摩能够进一步促进足部的穴位按摩以及血液循环,对睡眠质量提升有着较好的效果。
搜索关键词: 一种 浴盆
【主权项】:
一种足浴盆,包括盆体、设置在盆体底面的呈弧形的按摩台、设置在按摩台的安装槽以及装配在安装槽的按摩轮,其特征在于,所述盆体底面边缘处设置有关于盆体对称的按摩座,所述按摩座上设置有多个按摩凸点,所述按摩凸点均匀铺设,所述按摩凸点以梅花状分布设置在所述按摩座,所述按摩座共设置有四个,分别位于所述盆体底面的四个边角处。
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