[实用新型]用于沉积设备的基板遮蔽结构有效
申请号: | 201620050830.X | 申请日: | 2016-01-20 |
公开(公告)号: | CN205501411U | 公开(公告)日: | 2016-08-24 |
发明(设计)人: | 萧俊义;程家伟 | 申请(专利权)人: | 红日应用材料有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C16/458 |
代理公司: | 广东世纪专利事务所 44216 | 代理人: | 刘润愚 |
地址: | 中国台湾新竹县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型是关于一种用于沉积设备的基板遮蔽结构,包括环状框体及唇状部,环状框体包含复数框条,每一框条具有第一支撑面及第二支撑面,在第一支撑面和第二支撑面的一侧形成有内侧边,在内侧边设有容置槽;唇状部包含复数唇片,每一唇片具有第一表面、第二表面、分别形成在第一表面和第二表面侧边的第一边缘及第二边缘,各唇片分别对应于各容置槽嵌设,并使各第一表面的部分区域暴露于各容置槽外。藉此,可提升组装的便利性且能够增加组合后的结构强度。 | ||
搜索关键词: | 用于 沉积 设备 遮蔽 结构 | ||
【主权项】:
一种用于沉积设备的基板遮蔽结构,其特征在于包括:一环状框体,包含相互组接的复数框条,每一该框条具有一第一支撑面及形成在该第一支撑面背后方的一第二支撑面,在该第一支撑面和该第二支撑面的一侧形成有一内侧边,在该内侧边设有一容置槽;以及一唇状部,包含复数唇片,每一该唇片具有一第一表面、形成在该第一表面背后方的一第二表面、分别形成在该第一表面和该第二表面侧边的一第一边缘及一第二边缘,各该唇片分别对应于各该容置槽嵌设,并使各该第一表面的部分区域暴露于各该容置槽外。
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