[实用新型]晶片快速抛光装置有效
申请号: | 201620059744.5 | 申请日: | 2016-01-21 |
公开(公告)号: | CN205497195U | 公开(公告)日: | 2016-08-24 |
发明(设计)人: | 夏秋良 | 申请(专利权)人: | 苏州新美光纳米科技有限公司 |
主分类号: | B24B37/08 | 分类号: | B24B37/08;B24B37/34 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 曹祖良;张涛 |
地址: | 215123 江苏省苏州市苏州工*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种抛光装置,尤其是一种晶片快速抛光装置,属于半导体抛光的技术领域。按照本实用新型提供的技术方案,所述晶片快速抛光装置,包括呈对称分布的抛光大盘,在所述抛光大盘间设置至少一个用于固定晶片的游星轮,所述抛光大盘与游星轮间具有抛光垫;在抛光大盘间的至少一个游星轮内设置用于与抛光垫接触并在对晶片抛光时生热的生热膜片。本实用新型结构紧凑,与现有工艺相兼容,使用操作方便,能精确控制抛光温度,提高抛光的速度,适应范围广,安全可靠。 | ||
搜索关键词: | 晶片 快速 抛光 装置 | ||
【主权项】:
一种晶片快速抛光装置,包括呈对称分布的抛光大盘(2),在所述抛光大盘(2)间设置至少一个用于固定晶片(4)的游星轮(3),所述抛光大盘(2)与游星轮(3)间具有抛光垫(1);其特征是:在抛光大盘(2)间的至少一个游星轮(3)内设置用于与抛光垫(1)接触并在对晶片(4)抛光时生热的生热膜片(6)。
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