[实用新型]DMD投影光路激光直写倾斜双面曝光系统有效
| 申请号： | 201620065117.2 | 申请日： | 2016-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN205539927U | 公开（公告）日： | 2016-08-31 |
| 发明（设计）人： | 王翰文;赵华;张伟;徐巍;马汝治 | 申请（专利权）人： | 江苏影速光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 徐州市三联专利事务所 32220 | 代理人： | 周爱芳 |
| 地址： | 221399 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种DMD投影光路激光直写倾斜双面曝光系统，属于直写式光刻机快速扫描曝光技术领域。包括在竖直方向上倾斜且相互平行置于底座(4)两端上的DMD投影光路(2)；以及交叉分布于所述DMD投影光路(2)上的DMD集成组件(3)，两端DMD投影光路(2)上的DMD集成组件(3)相互对称布置；所述DMD投影光路(2)可沿与被曝光的PCB板(1)平行的方向移动；所述被曝光的PCB板(1)可沿水平方向移动。本DMD投影光路激光直写倾斜双面曝光系统能够同时曝光被曝光工件的正反两面，使得工作的效率提升一倍，同时，还可减少光路数量，更好的提高了产能、减少了成本、增加了工作的效率。 | ||
| 搜索关键词： | dmd 投影 激光 倾斜 双面 曝光 系统 | ||
【主权项】：
一种DMD投影光路激光直写倾斜双面曝光系统，其特征在于，包括在竖直方向上倾斜且相互平行置于底座(4)两端上的DMD投影光路(2)；以及交叉分布于所述DMD投影光路(2)上的DMD集成组件(3)，两端DMD投影光路(2)上的DMD集成组件(3)相互对称布置；所述DMD投影光路(2)可沿与被曝光的PCB板(1)平行的方向移动；所述被曝光的PCB板(1)可沿水平方向移动。
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