[实用新型]一种凹嵌式发光单元有效
申请号: | 201620066603.6 | 申请日: | 2016-01-25 |
公开(公告)号: | CN205488190U | 公开(公告)日: | 2016-08-17 |
发明(设计)人: | 牛宝 | 申请(专利权)人: | 河北易贝信息技术有限公司 |
主分类号: | H01L33/20 | 分类号: | H01L33/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 065500 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 一种凹嵌式发光单元,基材上设置有两个U形沟槽,基材为硅衬底,缓冲层成型在基材的表面及U形沟槽上,下化合物层成型在缓冲层上,量子阱层成型在下化合物层上,上化合物层成型在量子阱层上,量子阱层可以在下化合物层和上化合物层之间形成量子阱电载波,保护层覆盖U形沟槽,不覆盖上电极和下电极,上化合物层上成型有电流扩散层,欧姆接触层覆盖于电流扩散层上,欧姆接触层上成型透明导电层。对于形成在沟槽中的结构的优点是,在从U形的沟槽的垂直表面上的光发射可以比平坦表面更强,发光效率从而可以显著增加。 | ||
搜索关键词: | 一种 凹嵌式 发光 单元 | ||
【主权项】:
一种凹嵌式发光单元,其特征在于:基材上设置有两个U形沟槽,基材为硅衬底,缓冲层成型在基材的表面及U形沟槽上,下化合物层成型在缓冲层上,量子阱层成型在下化合物层上,上化合物层成型在量子阱层上,量子阱层可以在下化合物层和上化合物层之间形成量子阱电载波,保护层覆盖U形沟槽,不覆盖上电极和下电极,上化合物层上成型有电流扩散层,欧姆接触层覆盖于电流扩散层上,欧姆接触层上成型透明导电层,上化合物层在U形沟槽一侧相对下化合物层具有凸起,上电极连接于上化合物凸起处,U形沟槽另一侧为两U形沟槽相邻处,该处设置有下电极,下电极搭接在基材上方两侧与下化合物层连通。
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