[实用新型]新型真空镀膜装置

摘要

本实用新型提供一种新型真空镀膜装置，包括真空镀膜仓，真空镀膜仓内具有干锅放置架，真空镀膜仓内的底面上具有水平方向延伸的滑槽，滑槽的底部铺设导电金属片；真空镀膜仓底部紧靠滑槽一侧处均布多个齿槽，齿槽沿滑槽的延伸方向间隔排部，干锅放置架的底部具有电刷体，电刷体限位于滑槽中，且与导电金属片接触，导电金属片与外部电源电连接，干锅放置架上具有加热电阻，加热电阻与电刷体之间电连接，干锅放置架的侧面具有轮体，轮体中心具有转轴，转轴与电机连接，轮体的外沿具有与齿槽啮合的齿。本实用新型的有益效果是能同时对两个以上的基片进行镀膜，离子蒸汽流在镀膜腔中的分布更加均匀，镀膜效果好。

主权项

新型真空镀膜装置，包括真空镀膜仓，所述真空镀膜仓内具有干锅放置架，其特征在于：所述真空镀膜仓内的底面上具有水平方向延伸的滑槽，所述滑槽的底部铺设导电金属片；所述真空镀膜仓底部紧靠所述滑槽一侧处均布多个齿槽，所述齿槽沿所述滑槽的延伸方向间隔排部，所述干锅放置架的底部具有电刷体，所述电刷体限位于所述滑槽中，且与所述导电金属片接触，所述导电金属片与外部电源电连接，所述干锅放置架上具有加热电阻，所述加热电阻与所述电刷体之间电连接，所述干锅放置架的侧面具有轮体，所述轮体中心具有转轴，所述转轴与电机连接，所述轮体的外沿具有与所述齿槽啮合的齿。