[实用新型]高效真空镀膜装置有效

专利信息
申请号: 201620077134.8 申请日: 2016-01-27
公开(公告)号: CN205529007U 公开(公告)日: 2016-08-31
发明(设计)人: 同建辉;李卫东;孙婧 申请(专利权)人: 天津众伟科技有限公司
主分类号: C23C14/26 分类号: C23C14/26
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300000 天津市北*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 实用新型提供一种高效真空镀膜装置,包括真空镀膜仓,真空镀膜仓内的底部具有环形滑槽,环形滑槽的底部具有导电金属片,导电金属片与外部电源电连接,真空镀膜仓内具有转盘,转盘的中心具有转轴,转轴与电机连接,转盘上表面靠近其边缘处均布多个干锅放置架,干锅放置架上具有加热电阻,转盘与环形滑槽同轴线;每个干锅放置架的底部均具有电刷体,电刷体的下端限位于环形滑槽中,与导电金属片接触,电刷体与加热电阻电连接。本实用新型的有益效果是能同时对两个以上的基片进行镀膜,离子蒸汽流在镀膜腔中的分布更加均匀,镀膜效果好。
搜索关键词: 高效 真空镀膜 装置
【主权项】:
高效真空镀膜装置,包括真空镀膜仓,其特征在于:所述真空镀膜仓内的底部具有环形滑槽,所述环形滑槽的底部具有导电金属片,所述导电金属片与外部电源电连接,所述真空镀膜仓内具有转盘,所述转盘的中心具有转轴,所述转轴与电机连接,所述转盘上表面靠近其边缘处均布多个干锅放置架,所述干锅放置架上具有加热电阻,所述转盘与所述环形滑槽同轴线;每个所述干锅放置架的底部均具有电刷体,所述电刷体的下端限位于所述环形滑槽中,与所述导电金属片接触,所述电刷体与所述加热电阻电连接。
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