[实用新型]一种自动增强光刻机真空系统压力的装置有效

专利信息
申请号: 201620123668.X 申请日: 2016-02-17
公开(公告)号: CN205563071U 公开(公告)日: 2016-09-07
发明(设计)人: 张浩;王朝辉;谢华 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;陈慧弘
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种自动增强光刻机真空系统压力的装置,通过在光刻机真空供应管路分接真空压力增强管路,当厂务动力真空供应系统出现异常或需要进行定期维护而停止时,即可通过真空压力增强管路向光刻机真空系统提供额外的真空压力,使光刻机真空供应管路内部的压力值符合设定的需求值,可增强光刻机真空供应管路压力的稳定性,确保光刻机真空系统的压力保持正常,从而实现了光刻机不停机,并节省了停机带来的恢复作业时间。
搜索关键词: 一种 自动 增强 光刻 真空 系统 压力 装置
【主权项】:
一种自动增强光刻机真空系统压力的装置,所述光刻机真空系统包括真空分配箱,其通过光刻机真空供应管路、动力真空供应主管路连接厂务动力真空供应系统,其特征在于,所述装置包括:真空压力增强管路,连接光刻机真空供应管路;真空提供单元,设于真空压力增强管路,用于向光刻机真空系统提供额外的真空压力;真空压力感测单元,设于光刻机真空供应管路,用于实时监控光刻机真空供应管路内部的压力值,并把数据传输给真空压力监控系统;真空压力监控系统,连接真空压力感测单元和真空提供单元,用于将接收的光刻机真空供应管路内部压力值数据与设定的需求值进行对比,并在该压力值数据低于设定的需求值时,指令真空提供单元启动,向光刻机真空系统提供额外的真空压力,在该压力值数据高于或等于设定的需求值时,指令真空提供单元停止,以使光刻机真空供应管路内部的压力值符合设定的需求值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201620123668.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top