[实用新型]一种多溅射轨道的平面磁控溅射靶有效
| 申请号： | 201620124930.2 | 申请日： | 2016-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN205443437U | 公开（公告）日： | 2016-08-10 |
| 发明（设计）人： | 李志荣;李志方;罗志明 | 申请（专利权）人： | 东莞市汇成真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州知友专利商标代理有限公司 44104 | 代理人： | 何秋林;周克佑 |
| 地址： | 523820 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种多溅射轨道的平面磁控溅射靶，包括靶板、磁体组件，所述磁体组件安装在所述靶板后方，所述磁体组件中磁体的布置结构使其在所述靶板的靶面上形成两个以上的椭圆形或圆形溅射轨道。本实用新型平面磁控溅射靶通过在靶板的靶面上形成多个密集排布的溅射轨道，使平面磁控溅射靶靶材利用率高、发射的等离子体浓度高、发热相对较为分散、镀出的膜层均匀性好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 溅射 轨道 平面 磁控溅射 | ||
【主权项】：
一种多溅射轨道的平面磁控溅射靶，包括靶板、磁体组件，所述磁体组件安装在所述靶板后方，其特征在于，所述磁体组件中磁体的布置结构使其在所述靶板的靶面上形成两个以上的椭圆形或圆形溅射轨道。
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