[实用新型]层堆叠结构、阵列基板和显示装置有效

专利信息
申请号: 201620126200.6 申请日: 2016-02-17
公开(公告)号: CN205428907U 公开(公告)日: 2016-08-03
发明(设计)人: 程鸿飞 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L23/485 分类号: H01L23/485;H01L23/528;H01L27/12
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 彭久云;王锐
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种层堆叠结构、包括该层堆叠结构的阵列基板以及包括该阵列基板的显示装置。该层堆叠结构,包括:衬底基板;在远离所述衬底基板的方向上依次堆叠的第一导电层、第一绝缘层、第二导电层和第二绝缘层,其中,所述第一导电层与所述第二导电层在一重叠区域中彼此重叠,设置在所述重叠区域中的凹陷部,包括:贯通所述第一绝缘层的第一过孔;贯通所述第二导电层的第二过孔;以及贯通所述第二绝缘层的第三过孔,其中,所述第一过孔、所述第二过孔和所述第三过孔彼此连通,以及导电连接构件,延伸通过所述凹陷部的所述第三过孔、所述第二过孔和所述第一过孔,其中,所述第一导电层和所述第二导电层通过所述导电连接构件彼此电性连接。
搜索关键词: 堆叠 结构 阵列 显示装置
【主权项】:
一种层堆叠结构,包括:衬底基板;在远离所述衬底基板的方向上依次堆叠的第一导电层、第一绝缘层、第二导电层和第二绝缘层,其中,所述第一导电层与所述第二导电层在一重叠区域中彼此重叠;设置在所述重叠区域中的凹陷部,包括:贯通所述第一绝缘层的第一过孔;贯通所述第二导电层的第二过孔;以及贯通所述第二绝缘层的第三过孔,其中,所述第一过孔、所述第二过孔和所述第三过孔彼此连通;以及导电连接构件,延伸通过所述凹陷部的所述第三过孔、所述第二过孔和所述第一过孔,其中,所述第一导电层和所述第二导电层通过所述导电连接构件彼此电性连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201620126200.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top