[实用新型]一种研磨垫调整器有效
| 申请号： | 201620133058.8 | 申请日： | 2016-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN205363593U | 公开（公告）日： | 2016-07-06 |
| 发明（设计）人： | 唐强 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/017 | 分类号： | B24B53/017 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区大*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种研磨垫调整器包括：第一调整盘及第二调整盘，第一调整盘表面设置有第一尺寸的磨料颗粒，第二调整盘表面设置有第二尺寸的磨料颗粒，第一调整盘及第二调整盘中央设置有通孔，其中，第一尺寸小于第二尺寸。本实用新型的目的在于提供一种研磨垫调整器，用于解决现有技术中研磨垫表面不均匀，研磨效果差的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 调整器 | ||
【主权项】：
一种研磨垫调整器，其特征在于，所述研磨垫调整器包括：第一调整盘及第二调整盘，所述第一调整盘表面设置有第一尺寸的磨料颗粒，所述第二调整盘表面设置有第二尺寸的磨料颗粒，所述第一调整盘及第二调整盘中央设置有通孔，其中，所述第一尺寸小于所述第二尺寸。
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