[实用新型]快速二次元光学测量装置有效
| 申请号： | 201620149542.X | 申请日： | 2016-02-29 |
| 公开（公告）号： | CN205448968U | 公开（公告）日： | 2016-08-10 |
| 发明（设计）人： | 唐翔;黄海瑞;陶金明;汪旭东;闫飞;彭卫军;杨晓宁;秦学琴;赵伟 | 申请（专利权）人： | 苏州精创光学仪器有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215334 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型属于光学检测领域，尤其涉及一种快速二次元光学测量装置，包括测量框架，测量框架的底部设有光源，待测样品位于光源上方，与光源相应的测量框架的上部设有多个用于采集待测样品图像的取像元件，多个取像元件可以同时对待测样品上相互垂直的两尺寸方向采集图像，取像元件连接图像处理元件，测量框架上还设有可对取像元件位置进行调节的取像元件调节机构，因而本实用新型测量装置可以根据待测样品的尺寸大小情况，将测量框架上部的取像元件调节到合适位置后，多个取像元件便可以同时对待测样品上相互垂直的两尺寸方向采集图像，然后由图像处理元件根据接收到的图像执行二次元的计算，提高了测量精度和测量效率，具有广阔的市场前景。 | ||
| 搜索关键词： | 快速 二次元 光学 测量 装置 | ||
【主权项】：
一种快速二次元光学测量装置，包括测量框架，其特征在于，测量框架的底部设有光源，待测样品位于光源上方，与光源相应的测量框架的上部设有多个用于采集待测样品图像的取像元件，多个取像元件可以同时对待测样品上相互垂直的两尺寸方向采集图像，取像元件连接图像处理元件，测量框架上还设有可对取像元件位置进行调节的取像元件调节机构。
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