[实用新型]一种真空吸附平台有效
| 申请号： | 201620157351.8 | 申请日： | 2016-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN205521462U | 公开（公告）日： | 2016-08-31 |
| 发明（设计）人： | 蒋展望;王小文;郭海兵;刘川;李银海;金磊 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | B25J15/06 | 分类号： | B25J15/06;B65G47/91 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 刘悦晗;陈源 |
| 地址： | 230012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种真空吸附平台，包括真空吸盘和底座，真空吸盘与底座能够形成真空腔，所述真空吸盘包括第一吸盘、第二吸盘和隔膜，第二吸盘邻近所述真空腔；第一吸盘上设置多个第一吸盘孔，第二吸盘上设置多个第二吸盘孔，所述第一吸盘孔、第二吸盘孔和真空腔相连通；隔膜设置于第一吸盘和第二吸盘之间，并隔离所述第一吸盘孔与第二吸盘孔，可以避免真空吸盘上放置基板之外的区域破真空，在吸附异形基板时，不但不会出现盲区，吸附效果得到保证，而且无需额外覆盖吸附区域之外的区域，使用方便，能够大幅提高基板运载作业效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 吸附 平台 | ||
【主权项】：
一种真空吸附平台，包括真空吸盘和底座，真空吸盘与底座能够形成真空腔，其特征在于，所述真空吸盘包括第一吸盘、第二吸盘和隔膜，第二吸盘邻近所述真空腔；第一吸盘上设置多个第一吸盘孔，第二吸盘上设置多个第二吸盘孔，所述第一吸盘孔、第二吸盘孔和真空腔相连通；隔膜设置于第一吸盘和第二吸盘之间，并隔离所述第一吸盘孔与第二吸盘孔。
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