[实用新型]一种微波等离子谐振腔有效
| 申请号： | 201620167387.4 | 申请日： | 2016-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN205398725U | 公开（公告）日： | 2016-07-27 |
| 发明（设计）人： | 李晓静;郑顺奇;郑阳升 | 申请（专利权）人： | 中国兵器科学研究院宁波分院 |
| 主分类号： | C23C16/511 | 分类号： | C23C16/511 |
| 代理公司： | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人： | 郭晓华 |
| 地址： | 315103 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种微波等离子谐振腔，其包括金属腔，该金属腔的顶部的中间设有一调节结构，该调节结构的内部设有一气体入口通道，该金属腔的底部设有一基台以及两个对称设置的气体出口通道，所述两个气体出口通道设于所述基台的两侧，所述气体入口通道对准所述基台的中心位置。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微波 等离子 谐振腔 | ||
【主权项】：
一种微波等离子谐振腔，其包括金属腔，其特征在于，该金属腔的顶部的中间设有一调节结构，该调节结构的内部设有一气体入口通道，该金属腔的底部设有一基台以及两个对称设置的气体出口通道，所述两个气体出口通道设于所述基台的两侧，所述气体入口通道对准所述基台的中心位置。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
