[实用新型]一种并联结构的LED芯片有效

专利信息
申请号: 201620193713.9 申请日: 2016-03-14
公开(公告)号: CN205488191U 公开(公告)日: 2016-08-17
发明(设计)人: 李庆;刘撰;陈立人 申请(专利权)人: 聚灿光电科技股份有限公司
主分类号: H01L33/20 分类号: H01L33/20;H01L33/36;H01L33/32
代理公司: 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 代理人: 杨林洁
地址: 215123 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种并联结构的LED芯片,包括衬底、位于衬底上的外延结构及位于外延结构上的P电极和N电极,外延结构依次包括N型半导体层、发光层及P型半导体层,其特征在于,外延结构之间形成有若干隔离槽,外延结构由隔离槽隔离形成若干隔离区,隔离槽包括刻蚀至衬底的第一隔离槽及刻蚀至N型半导体层的第二隔离槽,第二隔离槽位于第一隔离槽围设的区域内,N电极位于第二隔离槽内且与每个隔离区中的N型半导体层分别电性连接,P电极位于第一隔离槽内且与每个隔离区中的P型半导体层分别电性连接。本实用新型通过并联结构能够使LED芯片的电流均匀分布,减少了电极及引脚对出光的吸收,增加侧壁的出光,提高了LED芯片的发光亮度。
搜索关键词: 一种 并联 结构 led 芯片
【主权项】:
一种并联结构的LED芯片,所述LED芯片包括衬底、位于衬底上的外延结构及位于外延结构上的P电极和N电极,所述外延结构依次包括N型半导体层、发光层及P型半导体层,其特征在于,所述外延结构之间形成有若干隔离槽,外延结构由所述隔离槽隔离形成若干隔离区,所述隔离槽包括刻蚀至衬底的第一隔离槽及刻蚀至N型半导体层的第二隔离槽,所述第二隔离槽位于第一隔离槽围设的区域内,所述N电极位于所述第二隔离槽内且与每个隔离区中的N型半导体层分别电性连接,所述P电极位于第一隔离槽内且与每个隔离区中的P型半导体层分别电性连接。
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