[实用新型]CMP 系统和用于抛光系统的保持环有效
| 申请号： | 201620202425.5 | 申请日： | 2016-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN205734411U | 公开（公告）日： | 2016-11-30 |
| 发明（设计）人： | 胡永其;西蒙·亚沃伯格;甘加达尔·希拉瓦特;凯瑟拉·R·纳伦德纳斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | B24B37/32 | 分类号： | B24B37/32 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种CMP系统和一种用于抛光系统的保持环。在一个实施方式中，用于抛光系统的保持环包括环形主体，所述环形主体具有抛光内径。所述主体具有：底表面，所述底表面具有形成在其中的槽；外径壁；和内径壁，其中所述内径壁被抛光至小于30微英寸(μin)的平均粗糙度(Ra)。 | ||
| 搜索关键词： | cmp 系统 用于 抛光 保持 | ||
【主权项】：
一种用于抛光系统的保持环，所述保持环包括：环形主体，所述环形主体具有：底表面，所述底表面具有形成在其中的槽，外径壁；和内径壁，所述内径壁具有经选择以适应半导体基板的直径，其中所述内径壁被抛光至小于30微英寸(μin)的平均粗糙度(Ra)。
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