[实用新型]一种多晶硅还原炉气流控制器

摘要

本实用新型公开了一种多晶硅还原炉气流控制器，用于控制还原炉的尾气排放，所述还原炉包括底盘，所述底盘中设置有排气孔，其中，所述气流控制器包括圆筒状本体，所述圆筒状本体的底端设置为开口部，顶端设置有密封端盖，所述筒状本体的侧壁上设置有多个通孔，所述圆筒状本体的底端与所述排气孔承插连接，所述开口部与所述排气孔流体连通。该气流控制器通过改变反应气体的流动轨迹，延长喷射速率较低的气体在还原炉内停留的时间，以使该部分气体能够充分反应，提高多晶硅转化率；进一步地，该气流控制器还可以避免生产多晶硅过程中可能产生的硅渣掉落到排气孔中。

主权项

一种多晶硅还原炉气流控制器，用于控制还原炉的尾气排放，所述还原炉包括底盘(1)，所述底盘(1)中设置有排气孔(102)，其特征在于，所述气流控制器(2)包括圆筒状本体(21)，所述圆筒状本体(21)的底端设置为开口部(22)，顶端设置有密封端盖(23)，所述筒状本体(21)的侧壁上设置有多个通孔(24)，所述圆筒状本体(21)的底端与所述排气孔(102)承插连接，所述开口部(22)与所述排气孔(102)流体连通。