[实用新型]适于多次套刻的多时序光刻图案的掩膜板组有效

专利信息
申请号: 201620203434.6 申请日: 2016-03-16
公开(公告)号: CN205594304U 公开(公告)日: 2016-09-21
发明(设计)人: 陶智;李秋实;李海旺;谭啸;徐天彤;余明星 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: G03F1/56 分类号: G03F1/56;G03F7/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 李相雨
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供一种适于多次套刻的多时序光刻图案的掩膜板组,所述掩膜板包括多块掩膜板,掩膜板的个数为m+1,m为套刻次数,其中,每块掩膜板上均匀划分多个图案区,图案区的总面积等于掩膜板的表面积,图案区的个数至少为m+1;每个图案区上设置有遮光层,遮光层上开设有透光图形,透光图形的种数为m+1;每块掩膜板上且处于相同位置上的图案区所开设的透光图形互不相同,并设掩膜板上处于同一位置上的m+1个透光图形为一套刻序组;任意两个对应位置上的套刻序组不同。本实用新型掩膜板组在进行多次套刻工艺时,无需考虑图形结构的加工顺序,便可得到不同时序的顺序排列方式,方便了不同时序加工流程,同时节约了掩膜板的数量,降低了成本。
搜索关键词: 适于 多次 多时 光刻 图案 掩膜板组
【主权项】:
一种适于多次套刻的多时序光刻图案的掩膜板组,其特征在于,包括多块掩膜板,掩膜板的个数为m+1,m为套刻次数,其中,每块所述掩膜板上均匀划分多个图案区,所述图案区的总面积等于掩膜板的表面积,图案区的个数至少为m+1;每个图案区上设置有遮光层,遮光层上开设有透光图形,透光图形的种数为m+1,各种类的透光图形套设在一起形成所述光刻图案;每块所述掩膜板上且处于相同位置上的图案区所开设的透光图形互不相同,并设掩膜板上处于同一位置上的m+1个透光图形为一套刻序组;任意两个对应位置上的套刻序组不同。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学,未经北京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201620203434.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top