[实用新型]适于多次套刻的多时序光刻图案的掩膜板组有效
申请号: | 201620203434.6 | 申请日: | 2016-03-16 |
公开(公告)号: | CN205594304U | 公开(公告)日: | 2016-09-21 |
发明(设计)人: | 陶智;李秋实;李海旺;谭啸;徐天彤;余明星 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | G03F1/56 | 分类号: | G03F1/56;G03F7/00 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 李相雨 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供一种适于多次套刻的多时序光刻图案的掩膜板组,所述掩膜板包括多块掩膜板,掩膜板的个数为m+1,m为套刻次数,其中,每块掩膜板上均匀划分多个图案区,图案区的总面积等于掩膜板的表面积,图案区的个数至少为m+1;每个图案区上设置有遮光层,遮光层上开设有透光图形,透光图形的种数为m+1;每块掩膜板上且处于相同位置上的图案区所开设的透光图形互不相同,并设掩膜板上处于同一位置上的m+1个透光图形为一套刻序组;任意两个对应位置上的套刻序组不同。本实用新型掩膜板组在进行多次套刻工艺时,无需考虑图形结构的加工顺序,便可得到不同时序的顺序排列方式,方便了不同时序加工流程,同时节约了掩膜板的数量,降低了成本。 | ||
搜索关键词: | 适于 多次 多时 光刻 图案 掩膜板组 | ||
【主权项】:
一种适于多次套刻的多时序光刻图案的掩膜板组,其特征在于,包括多块掩膜板,掩膜板的个数为m+1,m为套刻次数,其中,每块所述掩膜板上均匀划分多个图案区,所述图案区的总面积等于掩膜板的表面积,图案区的个数至少为m+1;每个图案区上设置有遮光层,遮光层上开设有透光图形,透光图形的种数为m+1,各种类的透光图形套设在一起形成所述光刻图案;每块所述掩膜板上且处于相同位置上的图案区所开设的透光图形互不相同,并设掩膜板上处于同一位置上的m+1个透光图形为一套刻序组;任意两个对应位置上的套刻序组不同。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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