[实用新型]一种等离子体化学气相沉积镀膜装置

摘要

本实用新型提供一种等离子体化学气相沉积镀膜装置，涉及技术领域。该实用新型包括真空室，真空室内设置有阴极屏、工件架和偏压电源，阴极屏设置在真空室的下部，工件架设置在阴极屏上，偏压电源设置在真空室外部，偏压电源包括第一偏压电源和第二偏压电源，第一偏压电源与阴极屏连接，第二偏压电源与工件台连接，真空室接地。本实用新型结构简单、易于制造、成本低廉，提高了生产效率，降低了生产成本，具有极大的生产实践意义。

主权项

一种等离子体化学气相沉积镀膜装置，其特征在于，包括真空室，所述真空室内设置有阴极屏、工件架和偏压电源，所述阴极屏设置在所述真空室的下部，所述工件架设置在所述阴极屏上，所述偏压电源设置在所述真空室外部，所述偏压电源包括第一偏压电源和第二偏压电源，所述第一偏压电源与所述阴极屏连接，所述第二偏压电源与所述工件台连接，所述真空室接地。