[实用新型]一种基板处理系统有效

专利信息
申请号: 201620207378.3 申请日: 2016-03-17
公开(公告)号: CN205488061U 公开(公告)日: 2016-08-17
发明(设计)人: 王峰超 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 汪源;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型提供一种基板处理系统,属于显示面板制备技术领域,其可解决现有的基板处理装置中因风扇无法将基板完全吹干及导致显影液分布不均匀导致的显影失败的问题。本实用新型的基板处理系统,包括传送装置、沿传送装置的传送方向依次设置的基板处理装置和显影装置;传送装置位于基板处理装置和显影装置下方,传送装置用于承载并运送基板;基板处理装置包括沿传送装置的传送方向依次设置的清洗单元和风干单元,风干单元设置有多个出气口,出气口面向传送装置;风干单元用于通过多个出气口向传送装置提供气体,以使基板干燥;显影装置包括显影喷嘴,显影喷嘴用于向风干单元干燥后的基板喷射显影液。
搜索关键词: 一种 处理 系统
【主权项】:
一种基板处理系统,其特征在于,包括传送装置、沿所述传送装置的传送方向依次设置的基板处理装置和显影装置;所述传送装置位于所述基板处理装置和所述显影装置下方,所述传送装置用于承载并运送基板;所述基板处理装置包括沿所述传送装置的传送方向依次设置的清洗单元和风干单元,所述风干单元设置有多个出气口,所述出气口面向所述传送装置;所述风干单元用于通过多个所述出气口向所述传送装置提供气体;所述显影装置包括显影喷嘴,所述显影喷嘴用于向所述风干单元干燥后的基板喷射显影液。
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