[实用新型]一种基板处理系统有效
申请号: | 201620207378.3 | 申请日: | 2016-03-17 |
公开(公告)号: | CN205488061U | 公开(公告)日: | 2016-08-17 |
发明(设计)人: | 王峰超 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 汪源;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供一种基板处理系统,属于显示面板制备技术领域,其可解决现有的基板处理装置中因风扇无法将基板完全吹干及导致显影液分布不均匀导致的显影失败的问题。本实用新型的基板处理系统,包括传送装置、沿传送装置的传送方向依次设置的基板处理装置和显影装置;传送装置位于基板处理装置和显影装置下方,传送装置用于承载并运送基板;基板处理装置包括沿传送装置的传送方向依次设置的清洗单元和风干单元,风干单元设置有多个出气口,出气口面向传送装置;风干单元用于通过多个出气口向传送装置提供气体,以使基板干燥;显影装置包括显影喷嘴,显影喷嘴用于向风干单元干燥后的基板喷射显影液。 | ||
搜索关键词: | 一种 处理 系统 | ||
【主权项】:
一种基板处理系统,其特征在于,包括传送装置、沿所述传送装置的传送方向依次设置的基板处理装置和显影装置;所述传送装置位于所述基板处理装置和所述显影装置下方,所述传送装置用于承载并运送基板;所述基板处理装置包括沿所述传送装置的传送方向依次设置的清洗单元和风干单元,所述风干单元设置有多个出气口,所述出气口面向所述传送装置;所述风干单元用于通过多个所述出气口向所述传送装置提供气体;所述显影装置包括显影喷嘴,所述显影喷嘴用于向所述风干单元干燥后的基板喷射显影液。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造