[实用新型]一种能均匀撒料的化工搅拌反应装置有效
申请号: | 201620211426.6 | 申请日: | 2016-03-17 |
公开(公告)号: | CN205413020U | 公开(公告)日: | 2016-08-03 |
发明(设计)人: | 冯晓娟;石彦龙 | 申请(专利权)人: | 河西学院 |
主分类号: | B01J19/18 | 分类号: | B01J19/18;B01J4/00;B01F7/16;B01F15/02 |
代理公司: | 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 | 代理人: | 姜庆梅 |
地址: | 734000 *** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种能均匀撒料的化工搅拌反应装置,包括填料装置、反应装置本体、排料装置和搅拌装置;所述反应装置本体下部设有底座;所述底座上部的反应装置本体上设有排料装置,排料装置上设有排料孔;所述反应装置本体上部设有填料装置,填料装置包括填料仓、输料管、漏料仓和滤料板;所述填料仓设置在反应装置本体上部,填料仓下部设有输料管,输料管下部设有漏料仓;所述漏料板下部设有滤料板,滤料板上设有滤料孔;所述反应装置本体上部设有搅拌装置,搅拌装置包括搅拌电机、电机支架、联轴器、搅拌轴、第一搅拌叶、第二搅拌叶、第三搅拌叶和第四搅拌叶;本实用新型结构简单,使用方便;能均匀的将物料播撒在反应装置本体内。 | ||
搜索关键词: | 一种 均匀 化工 搅拌 反应 装置 | ||
【主权项】:
一种能均匀撒料的化工搅拌反应装置,包括填料装置、反应装置本体、排料装置和搅拌装置;其特征在于,所述反应装置本体为圆柱体形,反应装置本体下部设有底座,底座共有四个,均匀分布在反应装置本体的底部;所述底座的横截面为半环形结构,半环形的圆心角为45°;所述底座上部的反应装置本体上设有排料装置,排料装置上设有排料孔,排料孔设置在反应装置本体的外部;所述反应装置本体的内壁上设有加热块,加热块共有十个,均匀分布在内壁上;所述加热块内设有电加热管;所述反应装置本体上部设有填料装置,填料装置包括填料仓、输料管、漏料仓和滤料板;所述填料仓设置在反应装置本体上部,填料仓下部设有输料管,输料管下部设有漏料仓,漏料仓底部设有漏料板,漏料板上设有漏料孔,漏料孔均匀分布在漏料板上;所述漏料板下部设有滤料板,滤料板上设有滤料孔,滤料孔均匀分布在滤料板的正下方;所述滤料板通过轴孔安装在搅拌轴上,滤料板与轴孔之间为固定连接;所述反应装置本体上部设有搅拌装置,搅拌装置包括搅拌电机、电机支架、联轴器、搅拌轴、第一搅拌叶、第二搅拌叶、第三搅拌叶和第四搅拌叶;所述搅拌电机通过电机支架固定安装在反应装置本体上部,电机支架为可拆卸的三角形支架;所述搅拌电机的主轴上设有联轴器,联轴器下部连接有搅拌轴,搅拌轴深入到反应装置本体内部;所述搅拌轴上设有第一搅拌叶、第二搅拌叶、第三搅拌叶和第四搅拌叶;所述第一搅拌叶设置在滤料板的下部,第一搅拌叶下部设有第二搅拌叶,第二搅拌叶的下部设有第三搅拌叶,第三搅拌叶的下部设有第四搅拌叶。
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