[实用新型]一种自聚焦透镜用镀膜系统有效
申请号: | 201620212297.2 | 申请日: | 2016-03-20 |
公开(公告)号: | CN205603670U | 公开(公告)日: | 2016-09-28 |
发明(设计)人: | 宋海峰 | 申请(专利权)人: | 杰讯光电(福建)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/44 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 351100 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种自聚焦透镜用镀膜系统,包括有真空室、氧气供给组件、尾气排出组件以及控制器,真空室具有氧气供给安装口以及尾气排出安装口;氧气供给组件包括有氧气瓶、氧气供给通路、电子阀,电子阀设置于氧气供给通路上,氧气供给通路与氧气供给安装口以及氧气瓶连接;尾气排出组件包括有静电吸附装置、尾气排出通路,尾气排出通路与尾气排出安装口连接,尾气排出通路的另一端设置有静电吸附装置,静电吸附装置设置于尾气排出通路尾端的管路内部;还包括有加热器,加热器设置于氧气供给通路上。设置加热器,能够对充入到真空室内的氧气进行预热,避免低温氧气进入真空室造成真空室的温度骤降,对氧气预热能够提高透镜镀膜的品质。 | ||
搜索关键词: | 一种 自聚焦 透镜 镀膜 系统 | ||
【主权项】:
一种自聚焦透镜用镀膜系统,包括有真空室(1)、氧气供给组件、尾气排出组件以及控制器(2),其特征在于,所述真空室具有氧气供给安装口以及尾气排出安装口;所述氧气供给组件包括有氧气瓶(3)、氧气供给通路、电子阀,所述电子阀设置于所述氧气供给通路上用于导通或者闭合所述氧气供给通路,所述氧气供给通路的一端与所述氧气供给安装口连接,所述氧气供给通路的另一端与所述氧气瓶连接,所述电子阀与所述控制器信号连接;所述尾气排出组件包括有静电吸附装置(4)、尾气排出通路,所述尾气排出通路的一端与所述尾气排出安装口连接,所述尾气排出通路的另一端设置有所述静电吸附装置,所述静电吸附装置设置于所述尾气排出通路尾端的管路内部;还包括有加热器(5)以及热传感器,所述加热器以及所述热传感器均设置于所述氧气供给通路上,所述加热器以及所述热传感器均与所述控制器信号连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杰讯光电(福建)有限公司,未经杰讯光电(福建)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201620212297.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:铜板清洗定位辊自动开合装置
- 下一篇:一种显示驱动电路及其控制方法、显示装置
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的