[实用新型]双面抛光机的下盘清洗装置有效
| 申请号： | 201620216535.7 | 申请日： | 2016-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN205415320U | 公开（公告）日： | 2016-08-03 |
| 发明（设计）人： | 郑勇;魏永利;朱枫;高敬帅 | 申请（专利权）人： | 浙江森永光电设备有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/017 | 分类号： | B24B53/017;B08B3/02 |
| 代理公司： | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人： | 吴建锋 |
| 地址： | 314000 浙江省嘉兴市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种双面抛光机的下盘清洗装置，属于机械技术领域。它解决了现有技术存在着不容易清洗的问题。本双面抛光机的下盘清洗装置设置在抛光机的下盘处，其特征在于，包括用于连接在抛光机上的支架一和支架二，所述的支架一上具有进水组件，所述支架二呈环形且套在下盘外侧，所述支架二上均布有若干与下盘上侧相对的出水件，上述的进水组件与出水件相联。本装置清洗方便。 | ||
| 搜索关键词： | 双面 抛光机 下盘 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种双面抛光机的下盘清洗装置，设置在抛光机的下盘处，其特征在于，包括用于连接在抛光机上的支架一和支架二，所述的支架一上具有进水组件，所述支架二呈环形且套在下盘外侧，所述支架二上均布有若干与下盘上侧相对的出水件，上述的进水组件与出水件相联。
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