[实用新型]磁控溅射镀膜薄膜厚度一致性控制装置有效
| 申请号： | 201620217746.2 | 申请日： | 2016-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN205529013U | 公开（公告）日： | 2016-08-31 |
| 发明（设计）人： | 王鲁南;朴賸一;王建华;全武贤;李锺允;窦立峰 | 申请（专利权）人： | 南京汇金锦元光电材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 王清义 |
| 地址： | 210046 江苏省南*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本技术提供一种能够使得保证镀膜厚度在阴极靶的长度方向上基本相同的磁控溅射镀膜薄膜厚度一致性控制装置。它包括位于屏蔽罩内的阴极靶，在正对阴极靶的屏蔽罩面板上开有中间宽度一致，两端宽度逐渐变小的腰形溅射孔，腰形溅射孔的长度方向与阴极靶的长度方向一致。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 镀膜 薄膜 厚度 一致性 控制 装置 | ||
【主权项】：
磁控溅射镀膜薄膜厚度一致性控制装置，包括位于屏蔽罩内的阴极靶，其特征是：在正对阴极靶的屏蔽罩面板上开有中间宽度一致，两端宽度逐渐变小的腰形溅射孔，腰形溅射孔的长度方向与阴极靶的长度方向一致。
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