[实用新型]配合光轴剖光设备使用的托架有效

专利信息
申请号: 201620219820.4 申请日: 2016-03-19
公开(公告)号: CN205465721U 公开(公告)日: 2016-08-17
发明(设计)人: 于涛 申请(专利权)人: 天津天弘精工传动机械科技股份有限公司
主分类号: B24B41/06 分类号: B24B41/06
代理公司: 天津市尚仪知识产权代理事务所(普通合伙) 12217 代理人: 王山
地址: 300380 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 实用新型提供一种配合光轴剖光设备使用的托架,包括底座和两个支撑板,支撑板的下端固定于底座上,上端朝向底座的上方延伸,支撑板的上部具有支撑辊,两个支撑辊的轴线相互平行,支撑辊的外壁上具有容置槽,容置槽内具有滚珠,滚珠限位于容置槽内,滚珠的一部分伸出容置槽外部,支撑板上具有螺纹孔,螺纹孔内具有定位螺栓,定位螺栓的一端能与支撑辊抵触,以此将限制支撑辊的转动。本实用新型的有益效果是适于配合剖光机械使用,可将光轴输送至机器内部后随光轴沿周向转动,减少光轴与托架之间的摩擦,避免将光轴表面划伤。
搜索关键词: 配合 光轴 设备 使用 托架
【主权项】:
 配合光轴剖光设备使用的托架,其特征在于:包括底座和两个支撑板,所述支撑板的下端固定于所述底座上,上端朝向所述底座的上方延伸,所述支撑板的上部具有支撑辊,两个所述支撑辊的轴线相互平行,所述支撑辊的外壁上具有容置槽,所述容置槽内具有滚珠,所述滚珠限位于所述容置槽内,所述滚珠的一部分伸出所述容置槽外部,所述支撑板上具有螺纹孔,所述螺纹孔内具有定位螺栓,所述定位螺栓的一端能与所述支撑辊抵触,以此将限制所述支撑辊的转动。
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