[实用新型]一种砷化镓基底低亮度黄光发光二极管芯片有效
申请号: | 201620240922.4 | 申请日: | 2016-03-28 |
公开(公告)号: | CN205488187U | 公开(公告)日: | 2016-08-17 |
发明(设计)人: | 赵宇;林鸿亮;张双翔;杨凯;何胜;李洪雨;田海军 | 申请(专利权)人: | 扬州乾照光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02;H01L33/44;H01L33/00 |
代理公司: | 扬州市锦江专利事务所 32106 | 代理人: | 江平 |
地址: | 225009 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种砷化镓基底低亮度黄光发光二极管芯片,属于光电子技术领域,具体涉及到AlGaInP四元系发光二极管技术领域。本实用新型的结构特点是:GaAs缓冲层与n型载流子限制层之间设有减反射层,同时在两层p型载流子限制层之间设有p型反射吸收层。使用金属有机化合物气相沉积设备将GaAs基片制备成具有低亮度黄光LED外延结构的低亮度黄光LED外延片,再将这种外延片经过芯片工艺加工成独立的LED芯片。本实用新型产品在不降低可靠性,不改变LED芯片外观尺寸的前提下,降低了四元系黄光LED法向光强,以利于扩宽AlGaInP四元系LED芯片的应用范围。 | ||
搜索关键词: | 一种 砷化镓 基底 亮度 发光二极管 芯片 | ||
【主权项】:
一种砷化镓基底低亮度黄光发光二极管芯片,包括依次设置在砷化镓基板一侧的缓冲层、n型减反射层、n型载流子限制层、双异质结有源区层、第 一p型限制层、p型吸收层、第二p型限制层和GaP窗口层,第一电极设置在GaP窗口层上,第二电极设置在砷化镓基板的另一侧。
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