[实用新型]一种磁控溅射靶盘卡槽有效
| 申请号： | 201620243429.8 | 申请日： | 2016-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN205556770U | 公开（公告）日： | 2016-09-07 |
| 发明（设计）人： | 乔宪武 | 申请（专利权）人： | 中国计量学院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310018 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型属于磁控溅射领域，具体涉及一种磁控溅射靶盘卡槽。一种磁控溅射靶盘卡槽，其特征在于：卡子2底部固定在磁控溅射底座1上表面边缘位置。所述卡子2为倒L形状的陶瓷件，数量大于等于3个，所述卡子2顶端可以转动，耐高温和不导电是陶瓷形状卡子的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 靶盘卡槽 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射靶盘卡槽，其特征在于：卡子(2)底部固定在磁控溅射底座(1)上表面边缘位置，卡子(2)为倒L形状的陶瓷件，数量大于等于3个，卡子(2)顶端可以转动。
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