[实用新型]离心甩干装置以及基板清洗装置有效

专利信息
申请号: 201620244446.3 申请日: 2016-03-26
公开(公告)号: CN205628733U 公开(公告)日: 2016-10-12
发明(设计)人: 甄常刮 申请(专利权)人: 纳晶科技股份有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B1/04;B08B5/02;F26B5/08
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 310052 浙江省杭州市滨*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型涉及一种离心甩干装置,此外还涉及一种应用离心甩干装置的基板清洗装置。一种离心甩干装置,包括离心旋转装置、固定座和喷气装置,所述固定座安装在离心旋转装置的输出端;喷气装置包括摆动机构和连接气源的喷气嘴,喷气嘴安装在摆动机构上并随摆动机构的摆动而移动;喷气嘴的气体喷射朝向在工件上的位置随喷气嘴自身的移动而变动,但气体喷射朝向始终处于工件的中心区域内。同时,本实用还公开了一种利用离心甩干装置的基板清洗装置。两者同时在离心甩干时,利用喷气的气体喷射朝向在工件上的位置变动而又在中心区域内,从而辅助工件的中心区域快速离心甩干,提供了甩干效率,降低设备成本和功耗。
搜索关键词: 离心 装置 以及 清洗
【主权项】:
一种离心甩干装置,包括离心旋转装置(9)、用于固定待干燥工件的固定座(3)和喷气装置,所述固定座(3)安装在离心旋转装置(9)的输出端;其特征在于:所述喷气装置包括摆动机构(5)和连接气源的喷气嘴(4),喷气嘴(4)安装在摆动机构(5)上并随摆动机构的摆动而移动;喷气嘴(4)的气体喷射朝向在工件上的位置随喷气嘴自身的移动而变动,但气体喷射朝向始终处于工件的中心区域(01a)内。
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