[实用新型]一种气相沉积工艺成膜设备有效
申请号: | 201620248511.X | 申请日: | 2016-03-29 |
公开(公告)号: | CN205420542U | 公开(公告)日: | 2016-08-03 |
发明(设计)人: | 黄彪;刘涛;张欣 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;陈慧弘 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种气相沉积工艺成膜设备,在气态的反应气体从热喷射歧管出来后,经过滤部件把凝聚态杂质过滤掉,加压部件对反应气体施加压力促进其进入气体混合箱中;并且结合加压部件的探测端来监控从过滤部件出来的反应气体,一旦发现反应气体的气压低于正常范围,加压部件的信号发送端发送异常信号给控制装置,控制装置控制关闭成膜设备,发出警报;通过本实用新型只需对过滤部件进行更换或清洗;避免了更换热喷射歧管和气体喷射装置以及对气体混合箱和工艺腔的清洗,降低了工艺成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 沉积 工艺 设备 | ||
【主权项】:
一种气相沉积工艺成膜设备,其具有液态气源、将从液态气源出来的液态反应气体加热成气态的反应气体的热喷射歧管、与液态气源相连且将液态反应气体输送入热喷射歧管的多路流量不同的第一管道、与热喷射歧管通过第二管道相连通的气体混合箱、与气体混合箱相连通的气体喷射装置、以及工艺腔,其中,气体喷射装置的喷头位于工艺腔的顶部,第二管道具有主路和多个支路,反应气体从热喷射歧管出来进入主路,然后通过多个支路实现反应气体的分流;分流的反应气体分别进入气体混合箱中,再通过气体喷射装置进入工艺腔内;其特征在于:在主路上且沿从主路到所述支路的方向上依次设置有过滤部件和加压部件,所述过滤部件用于过滤从所述热喷射歧管出来的反应气体中的凝聚态杂质,所述加压部件具有设置部件、施压部件、探测端和信号输出端,设置部件与探测端相连,探测端与信号输出端相连;所述设置部件设定通过所述过滤部件的反应气体的气压的正常范围,所述探测端用于实时监测从通过所述过滤部件的反应气体的气压且采用所述施压部件对通过所述过滤部件的反应气体施加压力使其加速进入所述气体混合箱中;信号输出端用于发出异常信号;所述成膜设备连接有一控制装置,控制装置具有信号接收端和报警部件,所述信号接收端与所述加压部件的信号输出端相连接;当所述加压部件的探测端监测到通过所述过滤部件的反应气体的气压低于所述正常范围时,则通过所述加压部件的信号发送端向所述控制装置的信号接收端发送异常信号,所述控制装置的信号接收端接收到所述加压部件的信号发送端发送的异常信号后,使所述成膜设备停止工作,并且控制所述报警部件发出警报。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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