[实用新型]带IP黑膜层的金属基件有效

专利信息
申请号: 201620258728.9 申请日: 2016-03-31
公开(公告)号: CN205498186U 公开(公告)日: 2016-08-24
发明(设计)人: 程海涛 申请(专利权)人: 程海涛
主分类号: B32B9/00 分类号: B32B9/00;B32B9/04;B32B15/04;B32B33/00
代理公司: 深圳市神州联合知识产权代理事务所(普通合伙) 44324 代理人: 周松强
地址: 334000 江西省*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开一种带IP黑膜层的金属基件,包括基件本体、具有耐磨性的过渡膜层以及有光泽并耐腐蚀的IP黑膜层,所述过渡膜层为铬硅镀层,所述IP黑膜层包括铬硅混合物与乙炔反应生成的碳化铬层以及碳化硅层,所述铬硅镀层均匀覆盖在基件本体的外表面,所述碳化铬层与碳化硅层均形成与铬硅镀层的外表面,且碳化铬层中的碳化铬与碳化硅层中的碳化硅均匀分布。铬硅膜层使工件表面覆盖铬硅混合物,膜层致密均匀,结合力强,保证了产品的耐磨性。中频溅射过程中铬硅电离出的离子与反应气体乙炔电离出的碳离子发生反应生成碳化铬与碳化硅,这两种物质呈黑色即IP黑膜层,这种膜层色泽光亮,且耐磨性能强。
搜索关键词: ip 黑膜层 金属
【主权项】:
一种带IP黑膜层的金属基件,其特征在于,包括基件本体、具有耐磨性的过渡膜层以及有光泽并耐腐蚀的IP黑膜层,所述过渡膜层为铬硅镀层,所述IP黑膜层包括碳化铬层以及碳化硅层,所述铬硅镀层均匀覆盖在基件本体的外表面,所述碳化铬层与碳化硅层均形成与铬硅镀层的外表面,且碳化铬层中的碳化铬与碳化硅层中的碳化硅均匀分布。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于程海涛,未经程海涛许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201620258728.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top