[实用新型]带IP黑膜层的金属基件有效
申请号: | 201620258728.9 | 申请日: | 2016-03-31 |
公开(公告)号: | CN205498186U | 公开(公告)日: | 2016-08-24 |
发明(设计)人: | 程海涛 | 申请(专利权)人: | 程海涛 |
主分类号: | B32B9/00 | 分类号: | B32B9/00;B32B9/04;B32B15/04;B32B33/00 |
代理公司: | 深圳市神州联合知识产权代理事务所(普通合伙) 44324 | 代理人: | 周松强 |
地址: | 334000 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本实用新型公开一种带IP黑膜层的金属基件,包括基件本体、具有耐磨性的过渡膜层以及有光泽并耐腐蚀的IP黑膜层,所述过渡膜层为铬硅镀层,所述IP黑膜层包括铬硅混合物与乙炔反应生成的碳化铬层以及碳化硅层,所述铬硅镀层均匀覆盖在基件本体的外表面,所述碳化铬层与碳化硅层均形成与铬硅镀层的外表面,且碳化铬层中的碳化铬与碳化硅层中的碳化硅均匀分布。铬硅膜层使工件表面覆盖铬硅混合物,膜层致密均匀,结合力强,保证了产品的耐磨性。中频溅射过程中铬硅电离出的离子与反应气体乙炔电离出的碳离子发生反应生成碳化铬与碳化硅,这两种物质呈黑色即IP黑膜层,这种膜层色泽光亮,且耐磨性能强。 | ||
搜索关键词: | ip 黑膜层 金属 | ||
【主权项】:
一种带IP黑膜层的金属基件,其特征在于,包括基件本体、具有耐磨性的过渡膜层以及有光泽并耐腐蚀的IP黑膜层,所述过渡膜层为铬硅镀层,所述IP黑膜层包括碳化铬层以及碳化硅层,所述铬硅镀层均匀覆盖在基件本体的外表面,所述碳化铬层与碳化硅层均形成与铬硅镀层的外表面,且碳化铬层中的碳化铬与碳化硅层中的碳化硅均匀分布。
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