[实用新型]闸门结构及沉积装置有效
申请号: | 201620260829.X | 申请日: | 2016-03-31 |
公开(公告)号: | CN205420544U | 公开(公告)日: | 2016-08-03 |
发明(设计)人: | 杨晓东;董杰;金哲山;周东淇;张兴洋;胡毓龙;张新星;高欢;龚勋 | 申请(专利权)人: | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种闸门结构及沉积装置,所述闸门结构包括:主体门,主体门包括第一侧板和第二侧板,第二侧板上设有密封圈;壁体,包括第一侧壁,第一侧壁上具有一闸口;能够驱动主体门在第一位置和第二位置之间移动的驱动机构;当第一侧板和第二侧板处于吸合状态时,第二侧板的第一侧面与第一侧壁之间具有第一间隙;在第一侧壁上设有第一调整件,在第一侧板上设有第二调整件;其中第一调整件和第二调整件的位置相对应,当第一侧板和第二侧板处于吸合状态时,第一调整件和第二调整件之间具有第二间隙,且第二间隙小于第一间隙。本实用新型所提供的闸门结构可以避免主体门上的密封圈与壁体发生摩擦或撞击,从而减少了密封圈磨损风险。 | ||
搜索关键词: | 闸门 结构 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种闸门结构,包括:主体门,所述主体门包括相对设置的能够吸合或分离的第一侧板和第二侧板,且所述第二侧板的远离所述第一侧板的第一侧面上设有密封圈;壁体,所述壁体包括一与所述第二侧板的第一侧面相对的第一侧壁,所述第一侧壁上具有一闸口;以及,与所述主体门连接,能够驱动所述主体门在第一位置和第二位置之间移动的驱动机构;在所述第一位置,所述第一侧板和所述第二侧板处于吸合状态,并位于所述闸口的一侧,以打开所述闸口;在所述第二位置,所述第一侧板和所述第二侧板处于分离状态,且所述第二侧板的第一侧面上的密封圈与所述第一侧壁的闸口两侧均接触,以关闭所述闸口;其中当所述第一侧板和所述第二侧板处于吸合状态时,所述第二侧板的第一侧面与所述第一侧壁之间具有第一间隙;其特征在于,在所述第一侧壁上设有第一调整件,在所述第一侧板上设有第二调整件;其中所述第一调整件和所述第二调整件的位置相对应,当所述第一侧板和所述第二侧板处于吸合状态时,所述第一调整件和所述第二调整件之间具有第二间隙,且所述第二间隙小于所述第一间隙。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的