[实用新型]一种刻蚀样品固定装置有效
| 申请号： | 201620261661.4 | 申请日： | 2016-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN205542697U | 公开（公告）日： | 2016-08-31 |
| 发明（设计）人： | 涂亮亮;刘亚坤;林建男;魏明德 | 申请（专利权）人： | 徐州同鑫光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20;H01J37/32 |
| 代理公司： | 徐州市三联专利事务所 32220 | 代理人： | 陈鹏 |
| 地址： | 221000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开一种刻蚀样品固定装置，属于半导体干法刻蚀技术领域，包括控制单元、吸附单元和蚀刻单元，控制单元与吸附单元连接，控制单元控制吸附单元产生刻蚀样品吸附力，蚀刻单元对吸附单元上的样品进行蚀刻；控制单元包括整流器、静电调节器、静电控制器和静电发生器；静电发生器用于发生静电；静电调节器用于调节静电发生器发出电量大小；静电控制器用于控制静电调节器；蚀刻单元包括上电极、下电极，上下电极配合产生蚀刻电浆；吸附单元包括刻蚀基板和支撑台，刻蚀基板设置在支撑台上方，刻蚀基板与静电发生器连接。该刻蚀样品固定装置，可有效增加蚀刻面积，提高刻蚀均匀性，便于人为操作和生产管控。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 样品 固定 装置 | ||
【主权项】：
一种刻蚀样品固定装置，其特征在于，包括控制单元、吸附单元和蚀刻单元，所述控制单元与所述吸附单元连接，控制单元控制所述吸附单元产生刻蚀样品吸附力，所述蚀刻单元对吸附单元上的样品进行蚀刻；所述控制单元包括整流器(1)、与整流器(1)连接的静电调节器(2)、及分别与静电调节器(2)连接的静电控制器(3)和静电发生器(4)；所述静电发生器(4)用于发生静电；所述静电调节器(2)用于调节静电发生器(4)发出电量大小；所述静电控制器(3)用于控制静电调节器(2)来调节静电发生器(4)产生的电量大小；所述蚀刻单元包括上电极(5)、与上电极(5)配合的下电极(6)，所述上、下电极配合产生蚀刻电浆；所述吸附单元包括设置在上、下电极间的刻蚀基板(7)和支撑台(8)，所述刻蚀基板(7)设置在支撑台(8)上方，所述刻蚀基板(7)与静电发生器(4)连接，刻蚀基板(7)接收静电发生器(4)产生的静电，使所述刻蚀基板(7)得到吸附力。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于徐州同鑫光电科技股份有限公司，未经徐州同鑫光电科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201620261661.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
