[实用新型]一种高均匀度曝光机光路系统有效
| 申请号： | 201620268276.2 | 申请日： | 2016-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN205485280U | 公开（公告）日： | 2016-08-17 |
| 发明（设计）人： | 孙秀辉;杨若夫;蔡文涛 | 申请（专利权）人： | 张家港奇点光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/09 |
| 代理公司： | 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 | 代理人： | 刘宪池 |
| 地址： | 215000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种高均匀度曝光机光路系统，它包括光源模块机构、复眼透镜机构、主反射镜机构、次反射镜机构和目标面，所述次反射镜机构位于复眼透镜机构和主反射镜机构之间的下方，并水平设在一与光源模块机构连接的固定机构上，所述复眼透镜机构设在光源模块机构和次反射镜机构之间，并设在次反射镜的上方；所述次反射镜机构上的次反射镜为凹面镜，其镜面水平向上；所述主反射镜机构上的主反射镜为凹面镜，其镜面倾斜向下；所述目标面位于主反射镜机构的下方。本实用新型至少具有结构简单、操作方便、目标面上接收到的光线照射均匀度高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 均匀 曝光 机光路 系统 | ||
【主权项】：
一种高均匀度曝光机光路系统，其特征在于：它包括光源模块机构、复眼透镜机构、主反射镜机构、次反射镜机构和目标面，所述次反射镜机构位于复眼透镜机构和主反射镜机构之间的下方，并水平设在一与光源模块机构连接的固定机构上，所述复眼透镜机构设在光源模块机构和次反射镜机构之间，并设在次反射镜的上方；所述次反射镜机构上的次反射镜为凹面镜，其镜面水平向上；所述主反射镜机构上的主反射镜为凹面镜，其镜面倾斜向下；所述目标面位于主反射镜机构的下方。
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