[实用新型]应用在超材料制备中的光刻仪有效
| 申请号： | 201620270066.7 | 申请日： | 2016-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN205450561U | 公开（公告）日： | 2016-08-10 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 深圳光启高等理工研究院 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;卢军峰 |
| 地址： | 518057 广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种应用在超材料制备中的光刻仪，该光刻仪包括：用于将接收的激光束分为两束以上相干光并输出的分束器；用于接收并调整两束以上相干光中的至少一束第一相干光的相位并对调整相位后的至少一束第一相干光进行输出的普克尔斯盒；其中，普克尔斯盒所输出的至少一束第一相干光与分束器所输出的未被普克尔斯盒接收调整的第二相干光在基板上发生干涉从而在基板上形成微结构图案。本实用新型通过采用激光干涉形成的周期性图案，能够简化制造工艺；通过采用普克尔斯盒进行光程差调节，使得光相干光在干涉处的光强度高形成干涉图案，并实现干涉图案的精准移动，不仅提高了制备效率还提高了图案的制造精准度。 | ||
| 搜索关键词： | 应用 材料 制备 中的 光刻 | ||
【主权项】：
一种应用在超材料制备中的光刻仪，其特征在于，包括：用于将接收的激光束分为两束以上相干光并输出的分束器；用于接收并调整所述两束以上相干光中的至少一束第一相干光的相位并对调整相位后的所述至少一束第一相干光进行输出的普克尔斯盒；其中，所述普克尔斯盒所输出的所述至少一束第一相干光与所述分束器所输出的未被所述普克尔斯盒接收调整的第二相干光在基板上发生干涉从而在基板上形成微结构图案。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳光启高等理工研究院，未经深圳光启高等理工研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201620270066.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
