[实用新型]一种物理化学气相沉积系统

摘要

本实用新型公开了一种物理化学气相沉积系统，包括真空腔体部分、等离子增强阴极、磁控溅射阴极、笼式工件架系统和抽气系统；所述真空腔体部分、等离子增强阴极和磁控溅射阴极均固定在笼式工件架系统上；所述抽气系统与真空腔体部分固定连接；该物理化学气相沉积复合膜层镀膜系统装置将磁控溅射沉积和低压等离子体增强化学气相沉积设计在同一个真空腔体内，磁控溅射沉积镀膜和低压等离子体增强化学气相沉积镀膜可以交替进行，在同一个基材的表面完成两种工艺技术的膜层沉积，从而能够获得复合功能膜层。

主权项

一种物理化学气相沉积系统，包括真空腔体部分(1)、等离子增强阴极(2)、磁控溅射阴极(3)、笼式工件架系统(4)和真空获得系统(5)；其特征在于：所述真空腔体部分(1)、等离子增强阴极(2)和磁控溅射阴极(3)均固定在笼式工件架系统(4)上；所述真空获得系统(5)与真空腔体部分(1)固定连接；所述真空腔体部分(1)包括真空腔体门(101)、腔门铰链(102)、真空腔本体(103)、高真空管抽气口(104)、低真空抽气口(105)、腔体真空检测口(106)、上挡板(107)和下挡板(108)；所述真空腔体门(101)通过腔门铰链(102)与真空腔本体(103)固定连接；所述真空腔本体(103)下端开设有高真空管抽气口(104)和低真空抽气口(105)；所述上挡板(107)位于真空腔本体(103)上方且开设有腔体真空检测口(106)；所述下挡板(108)位于真空腔本体(103)下方；所述等离子体增强阴极(2)包括等离子体供气装置(201)、等离子体阴极板(202)、阴极座(203)和等离子体阴极罩(204)；所述等离子体阴极板(202)和阴极座(203)固定连接；所述等离子体阴极罩(204)固定在阴极座(203)的外侧；所述等离子体供气装置(201)固定在等离子体阴极罩(204)上；所述磁控溅射阴极(3)包括磁控溅射阴极座(301)、磁控溅射阴极板(302)、带有磁极的磁控溅射磁极座(303)、磁控供气装置(304)和磁控溅射阴极罩(305)；所述磁控溅射阴极座(301)和磁控溅射阴极板(302)固定连接；所述带有磁极的磁控溅射磁极座 (303)与磁控溅射阴极板(302)固定连接；所述磁控溅射阴极罩(305)位于磁控溅射阴极座(301)的外侧；所述磁控供气装置(304)与磁控溅射阴极罩(305)固定连接；所述笼式工件架系统(4)包括旋转支座(401)、工件架上安装座(402)、工件架旋转轴(403)、工件架下安装座(404)、承重轴承(405)、动力引入装置(406)和基板加热装置(407)；所述工件架旋转轴(403)上端连接旋转支座(401)和工件架上安装座(402)，下端连接工件架下安装座(404)；所述承重轴承(405)和动力引入装置(406)固定连接；所述基板加热装置(407)固定在真空腔体部分(1)上；所述真空获得系统(5)包括分子泵(501)、分子泵连接角阀(502)、低真空抽气管(503)、低真空抽气阀(504)、抽速调节阀(505)、前级抽气管(506)、管道真空检测口(507)、前级抽气阀(508)、罗茨泵(509)、前级管道阀(510)和机械泵(511)；所述分子泵(501)通过分子泵连接角阀(502)连接在低真空抽气管(503)上；所述抽速调节阀(505)和低真空抽气阀(504)并联连接于低真空抽气管(503)上；低真空抽气管(503)通过低真空抽气阀(504)与前级抽气管(506)密闭连接；所述前级抽气管(506)上设有真空检测口(507)；所述前级抽气阀(508)安装在罗茨泵(509)上；所述罗茨泵(509)通过前级管道阀(510)与机械泵(511)连接。