[实用新型]一种两层自断式保护膜有效

专利信息
申请号: 201620297524.6 申请日: 2016-04-11
公开(公告)号: CN205576005U 公开(公告)日: 2016-09-14
发明(设计)人: 孙建伟;金海锋 申请(专利权)人: 和宏华进纳米科技(上海)有限公司
主分类号: C09J7/02 分类号: C09J7/02
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 竺路玲
地址: 201500 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种两层自断式保护膜,其特征在于,包括:一离型纸,所述离型纸上设有保护膜放置区;和若干个横向放置的保护膜,每一所述保护膜均沿所述保护膜放置区的纵向平行贴覆于所述保护膜放置区内;其中,所述离型纸于所述保护膜放置区的边缘部位设置定位挡边,并且,所述离型纸于所述保护膜放置区的外侧开设若干个定位孔。本实用新型提供的两层自断式保护膜,通过在离型纸上定位孔的设置,可有效提高对位精度,并因此而减少了现有技术中定位离型纸的使用,有效降低了保护膜的生产成本,提高了贴膜效率。
搜索关键词: 一种 保护膜
【主权项】:
一种两层自断式保护膜,其特征在于,包括:一离型纸,所述离型纸上设有保护膜放置区;和若干个横向放置的保护膜,每一所述保护膜均沿所述保护膜放置区的纵向平行贴覆于所述保护膜放置区内;其中,所述离型纸于所述保护膜放置区的边缘部位设置定位挡边,并且,所述离型纸于所述保护膜放置区的外侧开设若干个定位孔。
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