[实用新型]薄片处理装置及薄片处理装置的输送机构有效
申请号: | 201620300401.3 | 申请日: | 2016-04-12 |
公开(公告)号: | CN205709079U | 公开(公告)日: | 2016-11-23 |
发明(设计)人: | 许志浩 | 申请(专利权)人: | 联策科技股份有限公司 |
主分类号: | B65H23/26 | 分类号: | B65H23/26;B65H20/02 |
代理公司: | 北京汇信合知识产权代理有限公司 11335 | 代理人: | 翟国明 |
地址: | 中国台湾桃园*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型公开了薄片处理装置及薄片处理装置的输送机构,包含一处理槽用以储存处理液;一第一输送模块包含多个第一导引管;以及一第二输送模块包含多个第二导引管,其中多个所述第一导引管及多个所述第二导引管沿水平方向交错设置。其中当所述薄片处理装置处于一装载状态时,多个所述第一导引管是低于多个所述第二导引管,以使一薄片以不弯折的方式设置于多个第一及第二导引管之间;其中当所述薄片处理装置处于一输送状态时,多个所述第一导引管是高于多个所述第二导引管,以使所述薄片在多个第一及第二导引管定义的一弯折路径上输送,且通过所述处理液,以此提高装载效率。 | ||
搜索关键词: | 薄片 处理 装置 输送 机构 | ||
【主权项】:
一种薄片处理装置,其特征在于,包括:一处理槽,用以储存处理液;一第一输送模块,包含多个第一导引管;以及一第二输送模块,包含多个第二导引管,其中多个所述第一导引管及多个所述第二导引管沿水平方向交错设置;其中当所述薄片处理装置处于一装载状态时,多个所述第一导引管是位于一第一高度,多个所述第二导引管是位于一第二高度,且所述第二高度高于所述第一高度,以使一薄片以不弯折的方式设置于多个所述第一导引管及多个所述第二导引管之间;其中当所述薄片处理装置处于一输送状态时,多个所述第一导引管是位于一第三高度,多个所述第二导引管是位于一第四高度,且所述第四高度低于所述第三高度,以使所述薄片在多个所述第一导引管及多个所述第二导引管定义的一弯折路径上输送,且所述薄片通过所述处理槽内的处理液。
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