[实用新型]一种单层釉面窑变砖有效

专利信息
申请号: 201620309190.X 申请日: 2016-04-14
公开(公告)号: CN205677186U 公开(公告)日: 2016-11-09
发明(设计)人: 徐明光;曾小勇;罗青;彭平香;周根生 申请(专利权)人: 江西赣鑫工艺陶瓷有限公司
主分类号: E04F13/14 分类号: E04F13/14;C04B41/86
代理公司: 南昌佳诚专利事务所 36117 代理人: 张文宣;闵蓉
地址: 330046 江西*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 一种单层釉面窑变砖,涉及建筑陶瓷领域,该产品由坯体层与单层釉面层二层结构组成,坯体层厚度为6‑8mm,单层釉面层为包含有金属氧化物着色剂且其厚度为0.5—0.9mm,坯体层与单层釉面层通过梭式电窑烧制而紧密连接在一起,通过窑变釉反应,在单层釉面层内自然生成颜色一致、但花纹各不相同的釉面晶花图案。该产品将底釉、面釉二合为一成为单层釉面,既简化施釉工艺,又避免底釉、面釉两者厚薄不一而产生色差,能适应建筑装饰大面积铺贴,具有产品合格率高、适应于规模化生产、节能降耗、便于施工切割等优点,且由于釉面花纹自然生成且各不相同,给人一种律动与自然质感,满足了现代人们崇尚自然的审美要求。
搜索关键词: 一种 单层 釉面 窑变砖
【主权项】:
一种单层釉面窑变砖,由坯体层与单层釉面层二层结构组成,其特征在于:所述坯体层其厚度为6‑8mm,所述单层釉面层包含有金属氧化物着色剂且其厚度为0.5—0.9mm,坯体层与单层釉面层通过梭式电窑烧制而紧密连接在一起,通过烧制在单层釉面层内自然生成釉面晶花图案。
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