[实用新型]耐高温的发光二极管蒸镀膜图案形成的装置有效

专利信息
申请号: 201620317012.1 申请日: 2016-04-15
公开(公告)号: CN205828416U 公开(公告)日: 2016-12-21
发明(设计)人: 龚正;刘建政;杨政达 申请(专利权)人: 元茂光电科技(武汉)有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/36
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 任岩
地址: 430074 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型提供一种耐高温的发光二极管蒸镀膜图案形成的装置,包括一载具、一耐高温磁性吸附组件、一芯片以及一非磁性金属掩膜。载具具有第一容置空间及第二容置空间。耐高温磁性吸附组件设置于第一容置空间内。芯片设置于载具的第二容置空间内。非磁性金属掩膜覆盖载具的第二容置空间,其中高温的温度是80℃以上。
搜索关键词: 耐高温 发光二极管 镀膜 图案 形成 装置
【主权项】:
一种耐高温的发光二极管蒸镀膜图案形成的装置,其特征在于,包括:一载具,具有一第一容置空间及一第二容置空间;一耐高温磁性吸附组件,设置于该第一容置空间内;一芯片,设置于该载具的该第二容置空间内;以及一非磁性金属掩膜,覆盖该载具的该第二容置空间;其中,该高温的温度是80℃以上。
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