[实用新型]一种内装式磁控溅射靶镀膜机有效
| 申请号： | 201620333221.5 | 申请日： | 2016-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN205590788U | 公开（公告）日： | 2016-09-21 |
| 发明（设计）人： | 丁进金 | 申请（专利权）人： | 绍兴鑫兴纺织镭射科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/24 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 312000 浙江省绍兴市袍*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种镀膜机，其包括钟形罩体，罩体上方设置真空罩顶端法兰，罩体下部连接真空系统，罩体内部设置有基片架旋转轮圈、蒸发源以及挡板，基片架旋转轮圈通过传动杆与罩体底部相连，蒸发源设置于挡板下方，挡板通过蒸发挡板转动杆与所述罩体底部相连，基片架旋转轮圈一端安装有可旋转的溅射基片架，位于档板的上方且在溅射基片架竖直方向上安装有蒸发基片架，所述基片架旋转轮圈中部安装有靶体，所述基片架旋转轮圈另一端竖直方向安装有预溅射挡板，所述预溅射挡板一侧安装有加热烘烤装置。本实用新型通过安装内装式磁控溅射靶,增加了原有镀膜机的功能,使所能镀制的薄膜范围大大地增加。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 内装式 磁控溅射 镀膜 | ||
【主权项】：
一种内装式磁控溅射靶镀膜机,包括钟形罩体(1)，所述罩体(1)上方设置真空罩顶端法兰(2)，所述罩体(1)下部连接真空系统(3)，所述罩体(1)内部设置有基片架旋转轮圈(4)、蒸发源(5)以及挡板(6)，所述基片架旋转轮圈(4)通过传动杆(7)与罩体(1)底部相连，所述蒸发源(5)设置于挡板(6)下方，所述挡板(6)通过蒸发挡板转动杆(8)与所述罩体(1)底部相连，其特征在于：所述基片架旋转轮圈(4)一端安装有可旋转的溅射基片架(9)，位于挡板(6)的上方且在溅射基片架(9)竖直方向上安装有蒸发基片架(10)，所述基片架旋转轮圈(4)中部安装有靶体(11)，所述基片架旋转轮圈(4)另一端竖直方向安装有预溅射挡板(13)，所述预溅射挡板(6)一侧安装有加热烘烤装置(12)。
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