[实用新型]测量高功率激光聚焦光斑强度分布的衰减装置有效
| 申请号： | 201620344783.X | 申请日： | 2016-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN205691848U | 公开（公告）日： | 2016-11-16 |
| 发明（设计）人： | 鄢雨;吴秀榕;梁小生 | 申请（专利权）人： | 湖南戴斯光电有限公司 |
| 主分类号： | G02B17/08 | 分类号： | G02B17/08;G01M11/02 |
| 代理公司： | 长沙星耀专利事务所 43205 | 代理人： | 许伯严 |
| 地址： | 410600 湖南省*** | 国省代码： | 湖南;43 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及高功率激光聚焦光斑强度分布测量分析领域，尤其指一种测量高功率激光聚焦光斑强度分布的衰减装置。激光束依次经过聚焦系统、第一反射镜、第二反射镜和光束分析仪；激光束经过聚焦系统形成聚焦光斑，经过第一反射镜、第二反射镜形成轴外点；由第一反射镜和第二反射镜组成一倍远心反射式成像系统；第一反射镜的第一球面和第二反射镜的第二球面共球心，且第一球面的曲率半径是第二球面的曲率半径的两倍；所述聚焦光斑位于反射镜组的球心面的轴外，成像于轴外点，即对称分布在光轴两侧；光束分析仪对轴外点的成像光斑进行分析，直接测量聚焦光斑分布。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 功率 激光 聚焦 光斑 强度 分布 衰减 装置 | ||
【主权项】：
测量高功率激光聚焦光斑强度分布的衰减装置，其特征是，激光束（10）依次经过聚焦系统（20）、第一反射镜（40）、第二反射镜（50）和光束分析仪（70）；所述激光束（10）经过聚焦系统（20）形成聚焦光斑（30），经过第一反射镜（40）、第二反射镜（50）形成轴外点（60）；由第一反射镜（40）和第二反射镜（50）组成一倍远心反射式成像系统（100）；第一反射镜（40）的第一球面（41）和第二反射镜（50）的第二球面（51）共球心，且第一球面（41）的曲率半径是第二球面（51）的曲率半径的两倍；所述聚焦光斑（30）位于反射镜组的球心面的轴外，成像于轴外点（60），即对称分布在光轴两侧；光束分析仪（70）对轴外点（60）的成像光斑进行分析，获得强度分布。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖南戴斯光电有限公司，未经湖南戴斯光电有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201620344783.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
