[实用新型]一种用于微波等离子体化学气相沉积设备的移动样品台有效
申请号: | 201620349914.3 | 申请日: | 2016-04-25 |
公开(公告)号: | CN205635767U | 公开(公告)日: | 2016-10-12 |
发明(设计)人: | 彭金辉;江彩义;郭胜惠;杨黎;张利波;王梁 | 申请(专利权)人: | 昆明理工大学 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/513;C23C16/511 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 650093 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种用于微波等离子体化学气相沉积设备的移动样品台,属于微波等离子体化学气相沉积设备技术领域。所述移动样品台包括样品台、中心滑块、步进电机Ⅰ、基座、步进电机Ⅱ,螺杆Ⅰ、螺杆Ⅱ、滑块Ⅰ、滑块Ⅱ、滑块导轨,基座的下部实心结构,上部空心的结构,中心滑块位于基座的上部,基座上部四周均设有滑块导轨;螺杆Ⅰ的两端穿过滑块导轨,两端设有滑块Ⅰ,滑块Ⅰ位于滑块导轨上可滑动,其中一个滑块上设有步进电机Ⅰ;螺杆Ⅱ的结构与螺杆Ⅰ相同;由于螺杆Ⅰ与螺杆Ⅱ相互垂直且不在同一平面,中心滑块沿X轴、Y轴方向的移动相互独立,从而使沉积基片迅速到达与等离子球配合最佳的位置,大大提高工作效率和气相沉积效果。同时,样品台与基座接触面积小,降低样品热量的散失,可放置需高温处理的样品。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 微波 等离子体 化学 沉积 设备 移动 样品 | ||
【主权项】:
一种用于微波等离子体化学气相沉积设备的移动样品台,其特征在于:所述移动样品台包括样品台(1)、中心滑块(2)、步进电机Ⅰ(3)、基座(4)、步进电机Ⅱ(5),螺杆Ⅰ(6)、螺杆Ⅱ(7)、滑块Ⅰ(8)、滑块Ⅱ(9)、滑块导轨(10),基座(4)的下部实心结构,上部空心的结构,中心滑块(2)位于基座(4)的上部,基座(4)上部四周均设有滑块导轨(10);螺杆Ⅰ(6)的两端穿过滑块导轨(10),两端设有滑块Ⅰ(8),滑块Ⅰ(8)位于滑块导轨(10)上可滑动,其中一个滑块上设有步进电机Ⅰ(3);螺杆Ⅱ(7)两端穿过滑块导轨(10),两端设有滑块Ⅱ(9),滑块Ⅱ(9)位于滑块导轨(10)上可滑动,其中一个滑块上设有步进电机Ⅱ(5);螺杆Ⅰ(6)与螺杆Ⅱ(7)相互垂直且不在同一平面;中心滑块(2)顶部与样品台(1)固定连接,底部与与基座(4)相接触,螺杆Ⅰ(6)、螺杆Ⅱ(7)穿过中心滑块,与中心滑块之间通过螺纹连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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