[实用新型]一种制药沉淀装置有效
| 申请号： | 201620353219.4 | 申请日： | 2016-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN205699792U | 公开（公告）日： | 2016-11-23 |
| 发明（设计）人： | 张伟;宋金津;赵钊 | 申请（专利权）人： | 天津市亨必达化学合成物有限公司 |
| 主分类号： | B01D36/04 | 分类号： | B01D36/04 |
| 代理公司： | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人： | 郭栋梁 |
| 地址： | 301708 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种制药沉淀装置，包括相邻设置的沉淀槽和取液槽；所述沉淀槽和取液槽的共有侧壁在靠近底部设置有一个通口；所述沉淀槽的顶端悬挂有伸入到沉淀槽内的第一过滤网；所述沉淀槽的中部水平固定有第二过滤网；所述通口内固定有第三过滤网；所述取液槽内对应所述通口设置有一个“几”字型的缓冲通道。因此本实用新型的有益效果是：沉淀效果好，提高了沉淀后的取液的清洁度，同时结构简单，成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制药 沉淀 装置 | ||
【主权项】：
一种制药沉淀装置，其特征在于：包括相邻设置的沉淀槽(10)和取液槽(20)；所述沉淀槽(10)和取液槽(20)的共有侧壁在靠近底部设置有一个通口；所述沉淀槽(10)的顶端悬挂有伸入到沉淀槽(10)内的第一过滤网(11)；所述沉淀槽(10)的中部水平固定有第二过滤网(12)；所述通口内固定有第三过滤网(13)；所述取液槽(20)内对应所述通口设置有一个“几”字型的缓冲通道(21)。
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