[实用新型]一种用于晶片抛光盘的冷却装置有效
| 申请号： | 201620363812.7 | 申请日： | 2016-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN205600480U | 公开（公告）日： | 2016-09-28 |
| 发明（设计）人： | 姚钉丁;张俊宝;刘浦锋;宋洪伟;陈猛 | 申请（专利权）人： | 上海超硅半导体有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B55/03 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201604 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型专利提供一种用于晶片抛光盘的冷却装置；冷却水通过抛光机底座进入抛光机中心进水管，再分成10个分水管进入到梯形进水冷却扇区，通过导孔进入到梯形回水冷却扇区，经回水档板和回水管后进入循环泵，完成整体循环冷却；梯形进水冷却扇区和梯形回水冷却扇区，间隔分布，上部冷却水直接与大盘接触，对抛光机的大盘进行冷却，回水管出口为开放式结构，降低回水压力，控制陶瓷板上晶片的温度，防止粘接蜡的软化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 晶片 抛光 冷却 装置 | ||
【主权项】：
一种用于晶片抛光盘的冷却装置；冷却水通过抛光机底座进入抛光机中心进水管，再分成10个分水管进入到梯形进水冷却扇区，通过导孔进入到梯形回水冷却扇区，经回水档板和回水管后进入循环泵，完成整体循环冷却；梯形进水冷却扇区和梯形回水冷却扇区，间隔分布，上部冷却水直接与大盘接触，对抛光机的大盘进行冷却，回水管出口为开放式结构，降低回水压力，控制陶瓷板上晶片的温度，防止粘接蜡的软化。
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