[实用新型]光线收集透镜、曝光光学系统、曝光头及曝光装置

摘要

本实用新型涉及精密加工设备技术领域，具体涉及一种光线收集透镜、曝光光学系统、曝光头及曝光装置，所述光线收集透镜，包括用于容纳光源的容纳腔，所述光源包括若干阵列布置的LED芯片，所述容纳腔的壁面为入射面，光源发出的光线由光线收集透镜收集并进行角度和光束口径的控制，使尽量多的光线能够被后继其他透镜接收并且有效通过。本申请的光线收集透镜，光源发出的光线尽可能多的进入光线收集透镜，首先是保证了对光源发出光线的利用率；同时，进而提高了透镜对光源发出光线的控制能力，降低照射在透镜外部的光线对曝光设备的不利影响；再一方面，还能够对各个LED芯片发出的光线进行协调的控制，提高输出光线的均匀度。

主权项

一种光线收集透镜，其特征在于：包括用于容纳光源的容纳腔，所述光源包括若干阵列布置的LED芯片，所述容纳腔的壁面为入射面，光源发出的光线由光线收集透镜收集并进行角度和光束口径的控制，使尽量多的光线能够被后继其他透镜接收并且有效通过。