[实用新型]一种改善MOCVD外延片均匀性的石墨盘

摘要

一种改善MOCVD 外延片均匀性的石墨盘，本实用新型涉及MOCVD 外延片生产技术领域，小石墨盘通过栓支撑在大石墨盘上；在所述小石墨盘上设置有中心片槽和边缘片槽，所述边缘片槽沿所述中心片槽的外周均匀分布；在所述小石磨盘的所述中心片槽的底面设有螺旋凹槽。本实用新型使得中心片槽不同部位的温度有不同的降低，消除了由于栓导热造成的小盘中心局部温度较高的现象，改善了小盘中心片槽生长外延片的均匀性，同时也降低了小石墨盘中心和边缘温度差异，最终获得了整体均匀性很好的外延片。

主权项

一种改善MOCVD 外延片均匀性的石墨盘，包括大石墨盘和小石墨盘，所述小石墨盘通过栓支撑在大石墨盘上；在所述小石墨盘上设置有中心片槽和边缘片槽，所述边缘片槽沿所述中心片槽的外周均匀分布；其特征在于：在所述小石磨盘的所述中心片槽的底面设有螺旋凹槽。